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Vereinfachtes Herstellungsverfahren für Lab on Chip Systeme


Stark vereinfachte Bearbeitung und Herstellung von technischen Gläsern und Keramiken für den Einsatz in der Mikrofluidik


NEWS-EINTRAG aus der Kategorie Wissenschaft / Forschung vom 25.08.08 - 07:01 Uhr:

 

Unsere Strahlfolie RapidMask in den Stärken 50µ und 100µ kann mittels UV-Licht direkt auf dem Werkstoff belichtet werden und ist danach sofort strahlfähig. Die belichteten und somit gehärteten Bereiche der Strahlfolie lösen sich während des Strahlvorgangs einfach auf. Es können somit in kürzester Zeit beliebige Strukturen in Gläser, Keramiken oder auch in Verbundstoffe übertragen werden.


Durch das sogenannte Powder Blasting können komplexe dreidimensionale Strukturen und feinste Details in kürzester Zeit sehr genau und kostengünstig realisiert werden. Powder Blasting oder das Air Jet Machining (AJM) arbeiten auf Basis des Erosionsprinzips, wobei mittels feinster Strahlgüter Strukturen in spröde Materialien wie zum Beispiel Glas, Keramik, Stein, Silicate oder auch in Verbundstoffe gesteuert übertragen werden. Das feine Strahlgut, meist Edelkorund weiss F360, wird dabei mittels Druckluft auf Geschwindigkeit gebracht und trägt beim Aufprallen auf dem Substrat gezielt Material ab. Die von unseren fototechnischen Strahlfolien geschützten Bereiche bleiben dabei jedoch unberührt.

Gegenwärtig können mit unseren Foliensystemen Linien und andere Vertiefungen in einer Feinheit von weniger als 80µ durch Powder Blasting übertragen werden.

Mit dem ursprünglichen "Sandstrahlen" im Sinne von Entrosten oder Entlacken hat dieses System kaum noch etwas gemeinsam.

Bisherige Einsatzgebiete unserer fototechnischen Strahlfolien:

- Herstellung von Lab On Chip Systemen
- Herstellung von Mikroreaktoren
- Bearbeitung vom Composite Werstoffen
- Bearbeitung von Glaswafern im Bereich MEMS Packaging

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